SINGLE-PASS PROCESS FOR FORMING A MULTILAYERED SHAPED FILM PRODUCT

A process includes placing a mask over a substrate; delivering liquid film-forming compositions through the mask to the substrate; removing the mask to leave a multilayered raw shape on the substrate; and curing the multilayered raw shape to form the multilayered shaped film product disposed on the substrate. The mask has a delivery surface, an opposite surface and at least one aperture having a design corresponding to the desired shaped film product. The film-forming compositions are delivered through a multistream nozzle. The movement of the mask and the delivery of the first and second liquid film-forming compositions to the mask aperture are controlled to provide a volumetric flow rate of the first and second liquid film-forming compositions to the mask aperture corresponding to the volume of a void. The nozzle is in contact with the delivery surface of the mask. L'invention porte sur un procédé comprenant la mise en place d'un masque sur un substrat ; la distribution de compositions filmogènes liquides dans le masque vers le substrat ; le retrait du masque pour laisser une forme brute multicouche sur le substrat ; et le durcissement de la forme brute multicouche pour former le produit sous forme de film mis en forme multicouche disposé sur le substrat. Le masque comprend une surface de distribution, une surface opposée et au moins une ouverture ayant un dessin correspondant au produit sous forme de film mis en forme souhaité. Les compositions filmogènes sont distribuées par une buse à plusieurs flux. Le mouvement du masque et la distribution des première et seconde compositions filmogènes liquides vers l'ouverture du masque sont réglés pour assurer un débit volumique des première et seconde compositions filmogènes liquides vers l'ouverture du masque correspondant au volume d'un vide. La buse est en contact avec la surface de distribution du masque.