HIGH-BAND SIGNAL MODELING
A method includes filtering, at a speech encoder, an audio signal into a first group of sub-bands within a first frequency range and a second group of sub-bands within a second frequency range. The method also includes generating a harmonically extended signal based on the first group of sub-bands....
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A method includes filtering, at a speech encoder, an audio signal into a first group of sub-bands within a first frequency range and a second group of sub-bands within a second frequency range. The method also includes generating a harmonically extended signal based on the first group of sub-bands. The method further includes generating a third group of sub-bands based, at least in part, on the harmonically extended signal. The third group of sub-bands corresponds to the second group of sub-bands. The method also includes determining a first adjustment parameter for a first sub-band in the third group of sub-bands or a second adjustment parameter for a second sub-band in the third group of sub-bands. The first adjustment parameter is based on a metric of a first sub-band in the second group of sub-bands, and the second adjustment parameter is based on a metric of a second sub-band in the second group of sub-bands.
L'invention concerne un procédé comprenant le filtrage, au niveau d'un encodeur de parole, d'un signal audio dans un premier groupe de sous-bandes au sein d'une première plage de fréquences et un deuxième groupe de sous-bandes au sein d'une seconde plage de fréquence. Le procédé comprend également la génération d'un signal étendu de manière harmonique en se basant sur le premier groupe de sous-bandes. Le procédé comprend en outre la génération d'un troisième groupe de sous-bandes en se basant, au moins en partie, sur le signal étendu de manière harmonique. Le troisième groupe de sous-bandes correspond au deuxième groupe de sous-bandes. Le procédé comprend également la détermination d'un premier paramètre de réglage pour une première sous-bande dans le troisième groupe de sous-bandes ou d'un second paramètre de réglage pour une seconde sous-bande dans le troisième groupe de sous-bandes. Le premier paramètre de réglage est basé sur une métrique d'une première sous-bande dans le deuxième groupe de sous-bandes, et le second paramètre de réglage est basé sur une métrique d'une seconde sous-bande dans le deuxième groupe de sous-bandes. |
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