COMPOSITIONS AND METHODS FOR CLEANING MEMBRANES

A composition is disclosed for cleaning a membrane. The composition includes: (i) a non-ionic surfactant having the formula: R-O(CH2CH2O)n H, wherein R is a branched, substituted or unsubstituted, C11-15 alkyl group, wherein n is an average degree of ethoxylation, and wherein n is in the range of fr...

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Hauptverfasser: HILARIDES, JIM J, GRAMMENTZ, DILON RICHARD
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A composition is disclosed for cleaning a membrane. The composition includes: (i) a non-ionic surfactant having the formula: R-O(CH2CH2O)n H, wherein R is a branched, substituted or unsubstituted, C11-15 alkyl group, wherein n is an average degree of ethoxylation, and wherein n is in the range of from 3 to 20; and (ii) at least one of an additional non-ionic surfactant, a water soluble solvent, or a hydrotrope. In one version of the composition, an upper limit of a range of molecular weights of the surfactant is 1300 grams or below. In another version of the composition, the composition has a gel point such that it will be in the liquid phase before and after dilution with any amount of water at all temperatures of 40°F and above. A method of cleaning a membrane using the compositions is also disclosed. Une composition est décrite pour nettoyer une membrane. La composition comprend : (i) un agent de surface non ionique de formule R-O(CH2CH2O)n H, R étant un groupe alkyle en C11-15 ramifié, substitué ou non, n étant un degré moyen déthoxylation et dans la fourchette de 3 à 20; (ii) au moins un agent de surface non ionique supplémentaire, solvant hydrosoluble ou un hydrotrope. Selon une version de la composition, une limite maximale dune plage de masses moléculaires de lagent de surface est de 1 300 g ou moins. Selon une autre version de la composition, la composition présente un point de gélification, de sorte que la composition soit dans la phase liquide avant et après la dilution avec nimporte quelle quantité deau à nimporte quelle température au-dessus de 40 °F (environ 4,44 °C). Une méthode de nettoyage de la membrane au moyen des compositions est aussi décrite.