APPARATUS AND METHOD FOR THE PLASMA COATING OF A SUBSTRATE, IN PARTICULAR A PRESS PLATEN

An apparatus (100..103) for the plasma coating of a substrate (2), in particular a press platen, is provided, comprising a vacuum chamber (3) and, arranged therein, an electrode (400..409), which is segmented, wherein each of the electrode segments (500..512) has a dedicated connection (6) for an electrical energy source (700..702). Also provided is a method for operating said apparatus (100..103), in which a substrate (2) to be coated is positioned with respect to said electrode (400..409) and at least one energy source (700..706) that is assigned to an electrode segment (500..512) is activated. Moreover, a gas is introduced, with the effect of bringing about plasma-enhanced chemical vapour deposition on the substrate (2). L'invention concerne un dispositif (100..103) destiné au revêtement au plasma d'un substrat (2), en particulier d'une tôle emboutie, qui comprend une chambre à vide (3) et une électrode (400..409) qui est disposée dans cette chambre et qui est segmentée, chacun des segments d'électrode (500..512) présentant sa propre connexion (6) pour une source d'énergie électrique (700..702). Par ailleurs, l'invention porte sur un procédé pour l'utilisation du dispositif précité (100..103), dans lequel un substrat à revêtir (2) est positionné par rapport à l'électrode précitée (400..409) et au moins une source d'énergie (700..706) associée à un segment d'électrode (500,0512) est activée. En supplément, on introduit un gaz qui provoque une précipitation chimique de phase gazeuse assistée par le plasma sur le substrat (2).