METHOD FOR PRODUCING MICROCARRIERS

The present invention relates to a method for producing microcarriers comprising the following steps: (a) providing a wafer (6) having a sandwich structure comprising a bottom layer (7), a top layer (8) and a insulating layer(9) located between said bottom and top layers (7, 8), (b) etching away the top layer (8) to delineate lateral walls (12) of bodies (11) of the microcarriers, (c) depositing a first active layer (13)at least on a top surface (14) of the bodies (11), (d) applying a continuous polymer layer (16) over the first active layer(13), (e) etching away the bottom layer (7) and the insulating layer (9), (f) removing the polymer layer (16) to release the microcarriers. La présente invention concerne un procédé pour produire des micro-porteurs, consistant : (a) à fournir une tranche (6) ayant une structure en sandwich comportant une couche de fond (7), une couche supérieure (8) et une couche isolante (9) située entre la couche de fond et la couche supérieure (7, 8) ; (b) à éliminer par gravure la couche supérieure (8) pour délimiter des parois latérales (12) des corps (11) des micro-porteurs ; (c) à déposer une première couche active (13) au moins sur une surface supérieure (14) des corps (11) ; (d) à appliquer une couche de polymère (16) continue sur la première couche active (13) ; (e) à éliminer par gravure la couche de fond (7) et la couche isolante (9) ; (f) à retirer la couche de polymère (16) pour libérer les micro-porteurs.