METHOD AND APPARATUS FOR TREATING PROCESS WATER
The invention discloses a method and an apparatus for treating process water which is loaded with gaseous compounds and/or possibly with solids and comes from a wet-cleaning installation for cleaning process gas, e.g. from a melt-reduction subassembly or from a direct-reduction subassembly. Process...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention discloses a method and an apparatus for treating process water which is loaded with gaseous compounds and/or possibly with solids and comes from a wet-cleaning installation for cleaning process gas, e.g. from a melt-reduction subassembly or from a direct-reduction subassembly. Process water is introduced in a tank (1) in a first process stage and degassed on the basis of reduced solubility of the dissolved compounds. The tank (1) has, on its upper side, a gas-collecting chamber (1), in which the separated-off gases are collected and from which these are discharged. Likewise, the treated process water is discharged from the tank via a drainage means.
L'invention concerne un procédé et un dispositif pour le traitement d'une eau de processus chargée de composés gazeux ou/et éventuellement de solides, provenant d'une installation d'épuration par voie humide pour l'épuration de gaz de processus, par exemple provenant d'une unité de réduction par fusion - ou d'une unité de réduction directe. L'eau de processus est introduite dans un récipient (1) d'un premier étage de processus et est dégazée sur la base d'une solubilité réduite des composés dissous. Le récipient (1) présente sur son côté supérieur un espace de collecte de gaz (1) dans lequel les gaz séparés sont collectés et évacués de celui-ci. L'eau de processus traitée est également évacuée du récipient par un orifice de sortie. |
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