SILICON ELECTROMAGNETIC CASTING APPARATUS

Disclosed is an electromagnetic casting apparatus for silicon, wherein an outward deformation of a crucible (200) can be prevented during electromagnetic casting of silicon. Specifically disclosed is an electromagnetic casting apparatus (1) for silicon, which comprises a furnace container (100), a conductive crucible (200) that is provided within the furnace container (100), and an induction coil (300) that is provided on the outer periphery of the crucible (200). In the electromagnetic casting apparatus (1) for silicon, the inside of the furnace container (100) is set at a constant pressure using a predetermined gas and a voltage is applied to the induction coil (300), so that the silicon in the crucible (200) is melted by induction heating, and then solidified. In the electromagnetic casting apparatus (1) for silicon, a rigid structure (810) that is formed from an electrically insulating material is fitted to the outer peripheral surface of the crucible (200). L'invention porte sur un appareil de coulage électromagnétique pour du silicium, dans lequel une déformation vers l'extérieur d'un creuset (200) peut être empêchée pendant le coulage électromagnétique de silicium. De façon spécifique l'invention porte sur un appareil de coulage électromagnétique (1) pour du silicium, lequel comprend une enveloppe de four (100), un creuset conducteur (200) qui est disposé à l'intérieur de l'enveloppe de four (100) et une bobine d'induction (300) qui est disposée sur la périphérie externe du creuset (200). Dans l'appareil de coulage électromagnétique (1) pour du silicium, l'intérieur de l'enveloppe de four (100) est réglée à une pression constante à l'aide d'un gaz prédéfini et une tension est appliquée à la bobine d'induction (300), afin que le silicium présent dans le creuset (200) soit fondu par chauffage par induction, puis solidifié. Dans l'appareil de coulage électromagnétique (1) pour du silicium, une structure rigide (810) qui est formée à partir d'un matériau électriquement isolant est montée sur la surface périphérique externe du creuset (200).