SOLUTION AND METHOD FOR ACTIVATING THE OXIDIZED SURFACE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
The present invention relates to a solution and a method for activating the oxidized surface of a substrate, in particular of a semiconducting substrate, for its subsequent coating by a metal layer deposited by the electroless method. According to the invention, this composition contains: A) an acti...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a solution and a method for activating the oxidized surface of a substrate, in particular of a semiconducting substrate, for its subsequent coating by a metal layer deposited by the electroless method. According to the invention, this composition contains: A) an activator consisting of one or more palladium complexes: B) a bifunctional organic binder consisting one or more organosilane complexes; C) a solvent system consisting one or more solvents for solubilizing the said activator and the said binder. Application: Fabrication of electronic devices such as in particular integrated circuits in particular three-dimensional.
La présente invention porte sur une solution et sur un procédé pour activer la surface oxydée d'un substrat, en particulier d'un substrat semi-conducteur, pour son revêtement ultérieur par une couche métallique déposée par le procédé autocatalytique. Selon l'invention, cette composition contient : A) un activateur comprenant un ou plusieurs complexes de palladium ; B) un liant organique bifonctionnel comprenant un ou plusieurs complexes d'organosilane ; C) un système de solvant comprenant un ou plusieurs solvants pour solubiliser ledit activateur et ledit liant. Application : fabrication de dispositifs électroniques, tels que, en particulier, des circuits intégrés, en particulier à trois dimensions. |
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