PLASMA ELECTRODE CONFIGURATION FOR FORMING AN ELECTRON SHEATH LAYER

The present disclosure provides for a method of treating tissue. The method includes the steps of: positioning a plasma device in spaced relation to target tissue in accordance with a target tissue effect and generating plasma including secondarily-emitted electrons sufficient such that the target t...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: COLLINS, GEORGE J, ANTIOCO, DOUGLAS K, CHO, JIN-HOON, KOO, IL-GYO, MOORE, CAMERON A
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present disclosure provides for a method of treating tissue. The method includes the steps of: positioning a plasma device in spaced relation to target tissue in accordance with a target tissue effect and generating plasma including secondarily-emitted electrons sufficient such that the target tissue effect is achieved. La présente invention concerne un procédé de traitement de tissu. Le procédé comprend les étapes de : positionnement d'un dispositif à plasma en relation espacée par rapport au tissu cible conformément à un effet sur le tissu cible et génération d'un plasma comprenant des électrons émis de façon secondaire suffisants pour que l'effet sur le tissu cible soit obtenu.