ILLUMINATION SYSTEM FOR USE IN A STEREOLITHOGRAPHY APPARATUS

The invention concerns an illumination system (30) for use in a stereolithography apparatus (1), comprising a planar support supporting a two dimensional array (32) of individually controllable wide-angle light- emitting diodes (LEDs) (34); and a multilens projector array (40, 42) arranged relative to the array, and adapted to project a focussed image of the LEDs onto a work area (16). The multilens projector array is arranged to project light from the LED array having a light emitting edge area image spot size which is smaller than or equal to a light emitting central area image spot size. La présente invention concerne un système d'éclairage (30) qui est destiné à un appareil de stéréolithographie et qui comprend un support plan supportant un réseau bidimensionnel (32) de diodes électroluminescentes (DEL) à grand angle commandées individuellement (34), et un réseau de projecteurs multi-objectifs (40, 42) organisé par rapport au réseau, et conçu pour projeter sur une zone de travail (16) une image focalisée des diodes électroluminescentes. Le réseau de projecteurs multi-objectifs est organisé de façon à projeter une lumière qui provient du réseau de diodes électroluminescente, les dimensions du point d'image dans la zone de bordure d'émission de lumière étant inférieures ou égales aux dimensions du point d'image dans la zone centrale d'émission de lumière.