LOW PH CLEAR SKIN CLEANSING COMPOSITIONS COMPRISING A LOW MOLECULAR WEIGHT ACRYLATE POLYMER AND A NON-ETHOXYLATED ANIONIC SURFACTANT

There is provided skin cleansing compositions comprising (a) a low molecular weight, non-crosslinked, linear acrylic copolymer comprising: at least one first monomeric component selected from the group consisting of acrylic acid and . methacrylic acid, and at least one second monomeric component selected from the group consisting of one or more C1 to C9 alkyl acrylates and C1 to C9 alkyl methacrylates, wherein the low molecular weight copolymer has a number average molecular weight of 100,000 or less; and (b) at least one non-ethoxylated anionic surfactant in an amount of more than 2 weight percent of the skin cleansing composition; wherein the total surfactant load of said skin cleansing composition is not greater than 9 weight percent of the skin cleansing composition; the pH of said skin cleansing composition is 6.2 or less. La présente invention concerne des compositions de nettoyage de la peau comprenant (a) un copolymère acrylique linéaire non réticulé à faible poids moléculaire comprenant : au moins un premier composant monomère choisi parmi le groupe constitué dun acide acrylique et dun acide méthacrylique, et dau moins un second composant monomère choisi parmi le groupe constitué dun ou plusieurs acrylates dalkyle de C1 à C9 et de méthacrylates dalkyle de C1 à C9, dans lequel le copolymère à poids moléculaire léger a une masse moléculaire moyenne de 100 000 ou moins; et (b) au moins un agent tensioactif anionique non éthoxylé en une quantité de plus de 2 % en poids de la composition de nettoyage de la peau; dans laquelle la charge dagent tensioactif totale de ladite composition de nettoyage de la peau nest pas supérieure à 9 % en poids de la composition de nettoyage de la peau; le pH de ladite composition de nettoyage de la peau est de 6,2 ou moins.