METHOD AND DEVICE FOR DEPOSITING A NONMETALLIC COATING BY MEANS OF COLD GAS SPRAYING

A method for depositing a non-metallic, in particular ceramic, coating on a substrate by means of cold gas spraying, which comprises the method steps of: producing a reactive gas flow comprising at least one reactive gas, injecting into the reactive gas flow particles consisting of at least one mate...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KRUEGER, URSUS, KLINGEMANN, JENS, JANZ, DIRK, STIER, OLIVER, REICHE, RALPH, KOERTVELYESSY, DANIEL, LUETHEN, VOLKMAR, JENSEN, JENS DAHL
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method for depositing a non-metallic, in particular ceramic, coating on a substrate by means of cold gas spraying, which comprises the method steps of: producing a reactive gas flow comprising at least one reactive gas, injecting into the reactive gas flow particles consisting of at least one material required for producing a non-metallic, in particular ceramic, coating material by reaction with the reactive gas, so as to form a mixture flow of reactive gas and particles, producing reactive gas radicals in the mixture flow, and directing the mixture flow comprising reactive gas radicals and particles onto a surface of a substrate to be coated, and so a non-metallic, in particular ceramic, coating is deposited on the surface of the substrate. The reactive gas radicals are generated in the mixture flow by exciting the reactive gas molecules by means of electromagnetic radiation with a suitable frequency and flux density. In addition, there is provided a device for carrying out the method. L'invention concerne un procédé de dépôt d'un revêtement non métallique et en particulier céramique sur un substrat (2) par projection à gaz froid. Le procédé comprend les étapes qui consistent à former un écoulement (5) de gaz réactif qui contient au moins un gaz réactif, à injecter dans l'écoulement (5) de gaz réactif des particules (4) constituées d'au moins un matériau nécessaire pour former par réaction avec le gaz réactif un matériau de revêtement non métallique, et en particulier céramique de manière à former un écoulement de mélange constitué de gaz réactif et de particules (4), à former des radicaux de gaz réactif dans l'écoulement de mélange et à orienter l'écoulement de mélange qui comprend les radicaux de gaz réactif et les particules (4) sur la surface à revêtir d'un substrat (2) de manière à déposer un revêtement non métallique et en particulier céramique sur la surface du substrat (2). L'invention décrit en outre un dispositif (1) en vue de la mise en AEuvre du procédé.