INTEGRATED CIRCUIT AND METHOD FOR MANUFACTURING

A semiconductor structure (5), fluid ejection device, and methods for manufacturing the same are provided, such that a contact to a substrate (10) is formed from a conductive layer (30). L'invention concerne une structure semi-conductrice (5), un dispositif d'éjection de fluide, et des pro...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: DODD, SIMON, TOM, DENNIS W, WANG, S. JONATHAN, MILLER, RICHARD TODD, MCMAHON, TERRY E, HINDMAN, GREGORY T, BRYANT, FRANK R
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:A semiconductor structure (5), fluid ejection device, and methods for manufacturing the same are provided, such that a contact to a substrate (10) is formed from a conductive layer (30). L'invention concerne une structure semi-conductrice (5), un dispositif d'éjection de fluide, et des procédés de production associés, de façon qu'un contact avec un substrat (10) soit formé à partir d'une couche conductrice (30).