IN-LINE GAS PURITY MONITORING AND CONTROL SYSTEM

Method for supplying a high purity gas product comprising providing a first gas stream including a major component and at least one impurity component, determining the concentration of the at least one impurity component, and comparing the concentration so determined with a reference concentration f...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	COHEN, JOSEPH PERRY, SCHWEIGHARDT, FRANK KENNETH, FARESE, DAVID JOHN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CONTROLLING ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTIONOF COMPOUNDS OR NON-METALS INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING METALLURGY PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL PHYSICS PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSIONOF CHEMICAL INTO ELECTRICAL ENERGY REGULATING SEMICONDUCTOR DEVICES SEPARATION SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES TESTING TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Method for supplying a high purity gas product comprising providing a first gas stream including a major component and at least one impurity component, determining the concentration of the at least one impurity component, and comparing the concentration so determined with a reference concentration for that component. When the value of the concentration so determined is less than or equal to the reference concentration, the first gas stream is utilized to provide the high purity gas product. When the value of the concentration so determined is greater than the reference concentration, a second gas stream comprising the major component is provided and the first and second gas streams are mixed to yield a mixed gas stream having a concentration of the at least one impurity component that is less than the reference concentration. The mixed gas stream is utilized to provide the high purity gas product. L'invention concerne un procédé pour obtenir un produit gazeux à haute pureté comprenant un premier flux gazeux composé d'un composant principal et d'au moins un composant d'impureté pour déterminer la concentration d'au moins un composant d'impureté et pour comparer la concentration ainsi déterminée avec une concentration de référence pour ledit composant. Lorsque la valeur de la concentration ainsi déterminée est inférieure ou égale à la concentration de référence, le premier flux gazeux est utilisé pour obtenir un produit gazeux à haute pureté. Lorsque la valeur de la concentration ainsi déterminée est supérieure à la concentration de référence, un deuxième flux gazeux comprenant le composant principal est obtenu et les deux flux gazeux sont mélangés pour obtenir un flux gazeux mixte ayant une concentration d'au moins un composant d'impurité dont la valeur est inférieure à celle de la concentration de référence. Le flux gazeux mixte est utilisé pour obtenir un produit gazeux à haute pureté.