SILICON STRAIN GAGE HAVING A THIN LAYER OF HIGHLY CONDUCTIVESILICON

A semiconductor strain gage (10) having an electrically resistive substrate layer (12) and a layer of electrically conductive silicon (14) supported by the substrate layer. The silicon layer can be an epitaxial silicon layer gro wn on a surface of the substrate layer (12) or a diffused or ion-implan...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: GROSS, CHRIS
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!