dispositivo para o depósito quìmico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo

Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao el...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	GEORGE THEODORE DALAKOS, MICHAEL HOWARD RUCKER, MATTHEW DAVID SAYLOR, DANIEL JOSEPH LEWIS, SCOTT ANDREW WEAVER, VICTOR LIENKONG LOU
Format:	Patent
Sprache:	por
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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