dispositivo para o depósito quìmico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo

Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao el...

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Hauptverfasser: GEORGE THEODORE DALAKOS, MICHAEL HOWARD RUCKER, MATTHEW DAVID SAYLOR, DANIEL JOSEPH LEWIS, SCOTT ANDREW WEAVER, VICTOR LIENKONG LOU
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao elemento de aquecimento (12), de modo a receber a radiação eletromagnética: um membro de encerramento (18) ao menos parcialmente disposto ao redor da retorta (16), o membro de encerramento (18) compreendendo um material que é ao menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética; um plenum (20) definido ao menos em parte pela superfície interna (24) do membro de encerramento (18) e pela superfície externa (22) da retorta (16); e uma caixa de forno (14) ao menos parcialmente disposta ao redor do membro de encerramento (18) e da retorta (16), e alojando o elemento de aquecimento (12).