dispositivo para o depósito quìmico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo

Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao el...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	GEORGE THEODORE DALAKOS, MICHAEL HOWARD RUCKER, MATTHEW DAVID SAYLOR, DANIEL JOSEPH LEWIS, SCOTT ANDREW WEAVER, VICTOR LIENKONG LOU
Format:	Patent
Sprache:	por
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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creator	GEORGE THEODORE DALAKOS MICHAEL HOWARD RUCKER MATTHEW DAVID SAYLOR DANIEL JOSEPH LEWIS SCOTT ANDREW WEAVER VICTOR LIENKONG LOU
description	Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao elemento de aquecimento (12), de modo a receber a radiação eletromagnética: um membro de encerramento (18) ao menos parcialmente disposto ao redor da retorta (16), o membro de encerramento (18) compreendendo um material que é ao menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética; um plenum (20) definido ao menos em parte pela superfície interna (24) do membro de encerramento (18) e pela superfície externa (22) da retorta (16); e uma caixa de forno (14) ao menos parcialmente disposta ao redor do membro de encerramento (18) e da retorta (16), e alojando o elemento de aquecimento (12).
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Um dispositivo (10) de depósito químico de revestimento por vapor, o qual compreende um elemento de aquecimento (12) apto a emitir uma radiação eletromagnética; uma retorta (16) posicionada em relação ao elemento de aquecimento (12), de modo a receber a radiação eletromagnética: um membro de encerramento (18) ao menos parcialmente disposto ao redor da retorta (16), o membro de encerramento (18) compreendendo um material que é ao menos parcialmente transparente à radiação eletromagnética; um plenum (20) definido ao menos em parte pela superfície interna (24) do membro de encerramento (18) e pela superfície externa (22) da retorta (16); e uma caixa de forno (14) ao menos parcialmente disposta ao redor do membro de encerramento (18) e da retorta (16), e alojando o elemento de aquecimento (12).</description><language>por</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2007</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20071016&DB=EPODOC&CC=BR&NR=PI0605712A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20071016&DB=EPODOC&CC=BR&NR=PI0605712A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>GEORGE THEODORE DALAKOS</creatorcontrib><creatorcontrib>MICHAEL HOWARD RUCKER</creatorcontrib><creatorcontrib>MATTHEW DAVID SAYLOR</creatorcontrib><creatorcontrib>DANIEL JOSEPH LEWIS</creatorcontrib><creatorcontrib>SCOTT ANDREW WEAVER</creatorcontrib><creatorcontrib>VICTOR LIENKONG LOU</creatorcontrib><title>dispositivo para o depósito quìmico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo</title><description>Dispositivo para o depósito químico de revestimento por vapor e método de uso do dispositivo. 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