método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria
"método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria". compreende um método de quantificação de alumínio em matrizes de sílica, utilizando-se equipamentos convencionais de edxrf, considerando, além da emissão de raios-x característica do elemento...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | "método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria". compreende um método de quantificação de alumínio em matrizes de sílica, utilizando-se equipamentos convencionais de edxrf, considerando, além da emissão de raios-x característica do elemento a1, também picos de espalhamento da fonte de raios-x, e tal método apresenta com vantagens o fato de não ser destrutivo, pois requer mínima ou nenhuma preparação da amostra; apresentar simplicidade e rapidez de análises, com baixo custo, principalmente operacional; apresentar alta eficiência em se obter resultados, não gerar resíduos e, pode ser empregado como método de rotina. |
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