método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria

"método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria". compreende um método de quantificação de alumínio em matrizes de sílica, utilizando-se equipamentos convencionais de edxrf, considerando, além da emissão de raios-x característica do elemento...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Karen Goraieb, Kenneth Elmer Collins, Maria Izabel Maretti Silveira Bueno
Format: Patent
Sprache:por
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:"método de quantificação de alumínio em sílica por espalhamento de raios-x aliado a quimiometria". compreende um método de quantificação de alumínio em matrizes de sílica, utilizando-se equipamentos convencionais de edxrf, considerando, além da emissão de raios-x característica do elemento a1, também picos de espalhamento da fonte de raios-x, e tal método apresenta com vantagens o fato de não ser destrutivo, pois requer mínima ou nenhuma preparação da amostra; apresentar simplicidade e rapidez de análises, com baixo custo, principalmente operacional; apresentar alta eficiência em se obter resultados, não gerar resíduos e, pode ser empregado como método de rotina.