Métodos e aparelhos para aplicação de implantes oculares
métodos e aparelhos para aplicação de implantes oculares. sistema para tratar um olho de um paciente que precisa de tratamento, incluindo um dispositivo de aplicação que tem um compartimento dimensionado para ser empunhado por um operador, um atuador e um cone nasal distal; uma agulha acoplada e est...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | métodos e aparelhos para aplicação de implantes oculares. sistema para tratar um olho de um paciente que precisa de tratamento, incluindo um dispositivo de aplicação que tem um compartimento dimensionado para ser empunhado por um operador, um atuador e um cone nasal distal; uma agulha acoplada e estendendo-se distalmente a partir do cone nasal, sendo que a agulha tem um lúmen e uma extremidade distal chanfrada definindo uma abertura distal que tem uma ponta afiada e uma bainha proximal à abertura distal; e um tampão de retenção posicionado dentro e abrangendo o lúmen da agulha proximal à bainha; e um implante intraocular posicionado dentro do lúmen da agulha proximal ao tampão de retenção. o tampão de retenção é formado a partir de uma solução de retenção fluível de hidroxipropil metilcelulose (hpmc) em água com uma concentração que é maior que 2,5% p:p e menor que cerca de 4% p:p. são fornecidos dispositivos e métodos relacionados.
A system for treating an eye of a patient in need including a delivery device having a housing sized to be held by an operator, an actuator and a distal nose cone; a needle coupled to and extending distal from the nose cone, the needle having a lumen and a beveled distal end defining a distal opening having a sharpened tip and heel proximal the distal opening; and a retention plug positioned within and spanning the lumen of the needle proximal to the heel; and an intraocular implant positioned within the lumen of the needle proximal to the retention plug. The retention plug is formed from a flowable retainer solution of hydroxypropyl methylcellulose (HPMC) in water having a concentration that is greater than 2.5% w:w and less than about 4% w:w. Related devices and methods are provided. |
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