Composição de passivação baseada em misturas de ácidos fosfórico e fosfônico

composição de passivação baseada em misturas de ácidos fosfórico e fosfônico. a presente invenção refere-se ao fornecimento de uma composição aquosa de passivação, para o tratamento de revestimentos de zinco ou de liga de zinco, a dita composição tendo um ph de menos do que 3 e compreendendo: i) ácido fosfórico; ii) pelo menos um ácido polifosfônico solúvel em água, ou um sal solúvel em água do mesmo, em que o dito ácido polifosfônico tem a fórmula geral (i): em que: n é pelo menos 2; e z é uma porção orgânica conectando, que tem uma valência eficaz de n, o dito ácido polifosfônico sendo caracterizado pelo fato de que pelo menos dois grupos fosfônicos são separados por uma ponte de alquileno, tendo 1 ou 2 átomos de carbono (alquileno c1-c2); iii) pelo menos um cátion de metal divalente (m2+); e iv) pelo menos um fluoroácido solúvel em água ou dispersável solúvel em água, ou um sal do mesmo, em que o dito fluoroácido é definido pela fórmula empírica geral (ii) a seguir: hptqfros em que: cada um de q e r representa um número inteiro de 1 a 10; cada um de p e s representa um número inteiro de 0 a 10; e t representa um elemento selecionado do grupo consistindo em ti, zr, hf, si, sn, al, ge, e b. The present invention provides an aqueous passivation composition for the treatment of zinc or zinc alloy coatings, said composition having a pH of less than 3 and comprising:i) phosphoric acid;ii) at least one water-soluble polyphosphonic acid or a water-soluble salt thereof, wherein said polyphosphonic acid has the general formula (I):in which:n is at least 2; and,Z is a connecting organic moiety having an effective valency of n,said polyphosphonic acid being characterized in that at least two phosphonic groups are separated by an alkylene bridge having 1 or 2 carbon atoms (C1-C2alkylene);iii) at least one divalent metal cation (M2+); and,iv) at least one water-soluble or water-dispersible fluoroacid or a salt thereof, wherein said fluoroacid is defined by the following general empirical formula (II): HpTqFrOs (II)wherein: each of q and r represents an integer from 1 to 10;each of p and s represents an integer from 0 to 10; and,T represents an element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, Si, Sn, Al, Ge, and B.