Método para desinfecção usando um agente de desinfecção formado in situ pela reação de h2o2 e no2
a invenção se refere a um processo de desinfecção compreendendo os materiais de alimentação h2o2 e no2- e uma etapa de mistura e uma etapa de distribuição, em que a etapa de mistura e a etapa de distribuição (durante a qual cada ponto na superfície sendo desinfetada é umedecido com uma solução de su...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | a invenção se refere a um processo de desinfecção compreendendo os materiais de alimentação h2o2 e no2- e uma etapa de mistura e uma etapa de distribuição, em que a etapa de mistura e a etapa de distribuição (durante a qual cada ponto na superfície sendo desinfetada é umedecido com uma solução de substância ativa) são implementadas durante um período de processamento za. segue-se uma etapa de exposição, na qual a solução distribuída da substância ativa atua sobre a superfície em contato com a solução da substância ativa durante um período de exposição ze. neste processo, a concentração máxima de no2- durante a etapa de mistura é de 300 mm, e a taxa de reação integrada no tempo w é representada durante o período de exposição ze pela fórmula integral (i), onde k1 denota o valor de ph dependente constante de velocidade da reação entre h2o2 e no2- e o valor do ph da solução da substância ativa antes de entrar em contato com a superfície a ser desinfetada está na faixa de 2,1 = ph < 6,8. a invenção também se refere a um dispositivo para prover a solução de substância ativa.
The invention relates to a disinfection process comprising the feed materials H2O2 and NO2− and a mixing step and a distribution step, wherein the mixing step and the distribution step (during which each point on the surface being disinfected is wetted with a solution of active substance) are implemented during a processing period ZA. An exposure step follows, in which the distributed solution of active substance acts upon the surface in contact with the solution of active substance during an exposure period ZE. In this process, the maximum NO2− concentration during the mixing step is of 300 mM, and the time-integrated reaction rate W is represented during the exposure period ZE by the integral formula (I), where k1 denotes the pH-value-dependent speed constant of the reaction between H2O2 and NO2− and the pH value of the solution of active substance before it contacts the surface being disinfected lies in the range of 2.1≤pH≤6.8. The invention also relates to a device for providing the solution of active substance. |
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