Precursor de chapa de impressão litográfica, métodos para prover uma chapa de impressão litográfica e para preparar o precursor de chapa de impressão litográfica, e, substrato

precursores de chapa de impressão litográfica são preparados com um substrato específico e uma ou mais camadas convertíveis em imagem sensíveis à radiação. o substrato inventivo é preparado por dois processos de anodização separados para prover uma camada de óxido de alumínio interna tendo uma espessura seca média (ti) de 650 a 3.000 nm e inúmeros microporos internos tendo um diâmetro de microporo interno médio (di) de < 15 nm. uma camada de óxido de alumínio externa formada compreende inúmeros microporos externos tendo um diâmetro de microporo externo médio (do) de 15 a 30 nm; uma espessura seca média (to) de 130 a 650 nm; e uma densidade de microporo (co) de 500 a 3.000 microporos/µm2. a razão de do para di é maior que 1,1:1 e do em nanômetros e a densidade de microporo (co) de camada de óxido de alumínio externa em microporos/µm2, são definidos adicionalmente pela porosidade (po) de camada de óxido de alumínio externa de acordo com a seguinte equação: 0,3 < po < 0,8, em que po é 3,14(co)(do2)/4.000.000. where Po is 3.14(Co)(Do2)/4,000,000.