litografia avançada e dispositivos automontados

são descritas técnicas de litografia avançadas incluindo padronização de afastamento sub-10 nm e estruturas daí resultantes. são descritos dispositivos automontados e seus métodos de fabricação. Advanced lithography techniques including sub-10 nm pitch patterning and structures resulting therefrom a...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	CURTIS W. WARD, FLORIAN GSTREIN, MANISH CHANDHOK, JAMES M. BLACKWELL, KEVIN L. LIN, ROBERT L. BRISTOL, PAUL A. NYHUS, ELLIOT N. TAN, RICHARD E. SCHENKER, MARIE KRYSAK, SWAMINATHAN SIVAKUMAR, CHARLES H. WALLACE
Format:	Patent
Sprache:	por
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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