MÉTODO DE MONITORAMENTO PARA UMA INSTALAÇÃO DE FILTRO E INSTALAÇÃO DE FILTRO

Em operação normal, um dispositivo de filtro (5) filtra gás residual carregado (2) em grupos de filtros (8) com luvas de filtros (7). Em uma operação de limpeza, um gás de limpeza (12) é aplicado a um respectivo grupo de filtros (8) no lado do ar residual (10) via uma válvula associada (13), de modo...

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Hauptverfasser: PHILIPP AUFREITER, MICHAEL WEINZINGER, ANNA MAYRHOFER, ANDREAS ROHRHOFER, PAUL FISCHER, THOMAS KUEHAS
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:Em operação normal, um dispositivo de filtro (5) filtra gás residual carregado (2) em grupos de filtros (8) com luvas de filtros (7). Em uma operação de limpeza, um gás de limpeza (12) é aplicado a um respectivo grupo de filtros (8) no lado do ar residual (10) via uma válvula associada (13), de modo que o bolo de filtro (11) se separa do lado do ar de entrada (9) das luvas de filtros (7). Um dispositivo sensor (16) disposto no canal de gás residual (6) detecta uma carga (B) do gás residual (2) causada pela operação de limpeza de cada grupo de filtros (8). Um dispositivo de monitoramento (17) registra a carga gerada (B) do gás residual (2). Ele determina um respectivo estado para cada grupo de filtros (8) com base na carga (B) causada pela operação de limpeza de cada grupo de filtros (8) em conexão com a carga (B) causada pela operação de limpeza de pelo menos um outro grupo de filtros (8). In normal operation, a filter device (5) filters loaded waste gas (2) in filter groups (8) with filter sleeves (7). In a cleaning operation, a cleaning gas (12) is applied to a respective filter group (8) on the waste air side (10) via an associated valve (13) such that the filter cake (11) detaches from the incoming air side (9) of the filter sleeves (7). A sensor device (16) arranged in the waste gas channel (6) detects a loading (B) of the waste gas (2) caused by the cleaning operation of each filter group (8). A monitoring device (17) records the generated loading (B) of the waste gas (2). It determines a respective state for every filter group (8), on the basis of the loading (B) caused by the cleaning operation of each filter group (8) in connection with the loading (B) caused by the cleaning operation of at least one other filter group (8).