dispositivo optoeletrônico e método de produção do mesmo

trata-se de um dispositivo optoeletrônico (10) que inclui um primeiro substrato (12) que tem uma primeira superfície (14) e uma segunda superfície (16); uma subcamada (18) situada sobre a segunda superfície (16); uma primeira camada condutora (20) sobre a subcamada (18); uma sobrecamada (22) sobre a...

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Hauptverfasser: KWAKU K. KORAM, GARY J. NELIS, CHENG-HUNG HUNG, JAMES W. MCCAMY, BENJAMIN KABAGAMBE, ZHIXUN MA
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:trata-se de um dispositivo optoeletrônico (10) que inclui um primeiro substrato (12) que tem uma primeira superfície (14) e uma segunda superfície (16); uma subcamada (18) situada sobre a segunda superfície (16); uma primeira camada condutora (20) sobre a subcamada (18); uma sobrecamada (22) sobre a primeira camada condutora (20); uma camada semicondutora (24) sobre a primeira camada condutora (20); e uma segunda camada condutora (26) sobre a camada semicondutora (24). a primeira camada condutora (20) inclui um óxido condutor e pelo menos um dopante selecionado a partir do grupo que consiste em tungstênio, molibdênio, nióbio e flúor; e/ou a sobrecamada (22) inclui uma camada de tampão (42) que inclui óxido de estanho e pelo menos um material selecionado a partir do grupo que consiste em zinco, índio, gálio e magnésio. A method of making a coated article includes forming a first coating over a first surface of a substrate; and forming a second coating over a second surface of the substrate. The second coating includes a first conductive layer including tin oxide and at least one material selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, and niobium.