Composição de limpeza e uso de um polímero

composição de limpeza e uso de polímero é descrito, em um aspecto, uma composição de limpeza que compreende: (i) um tensoativo; (ii) um metal oligodinâmico ou seus íons; (iii) um agente quelante; e um polímero com um grupo que compreende um local com um ou mais pares isolados de elétrons, em que o m...

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Hauptverfasser: AJIT MANOHAR AGARKHED, PARUCHURI DIVYA, KUMAR NITISH
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:composição de limpeza e uso de polímero é descrito, em um aspecto, uma composição de limpeza que compreende: (i) um tensoativo; (ii) um metal oligodinâmico ou seus íons; (iii) um agente quelante; e um polímero com um grupo que compreende um local com um ou mais pares isolados de elétrons, em que o mencionado tensoativo é sabão. o polímero que contém um grupo que compreende um local com um ou mais pares isola dos de elétrons aumenta a eficácia antimicrobiana do metal oligodinâmico. In one aspect is disclosed a cleansing composition comprising: (i) a surfactant; (ii) an oligodynamic metal or ions thereof; (iii) a chelating agent; and, a polymer having a group comprising a site having one or more lone pair of electrons wherein, said surfactant is soap. The polymer having a group comprising a site having one or more lone pair of electrons enhances the antimicrobial efficacy of the oligodynamic metal.