COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA COM RÁPIDO COLAPSO DE ESPUMA

COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA COM RÁPIDO COLAPSO DE ESPUMA. Uma composição de limpeza aquosa incluindo: um tensoativo; um primeiro composto que é imiscível em água e tem parâmetros de solubilidade Hansen de 10 MPa0,5 (Menor igual) (Delta)D (Menor igual) 22 MPa0,5, 0 (Menor igual) (Delta)P (Menor igual) 14 M...

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Hauptverfasser: JAN E. SHULMAN, ANDREA C. KEENAN, THEODORE TYSAK
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA COM RÁPIDO COLAPSO DE ESPUMA. Uma composição de limpeza aquosa incluindo: um tensoativo; um primeiro composto que é imiscível em água e tem parâmetros de solubilidade Hansen de 10 MPa0,5 (Menor igual) (Delta)D (Menor igual) 22 MPa0,5, 0 (Menor igual) (Delta)P (Menor igual) 14 MPa0,5, e 0 (Menor igual) (Delta)H (Menor igual) 14 MPa0,5; e um segundo composto que é miscível em água e tem parâmetros de solubilidade Hansen de 10 MPa0,5 (Menor igual) (Delta)D (Menor igual) 22 MPa0,5, 0 (Menor igual) (Delta)P (Menor igual) 10 MPa0,5, e 0 (Menor igual) (Delta)H (Menor igual) 14 MPa0,5, em que o tensoativo, o primeiro composto, e o segundo composto são cada um independentemente incluídos em uma quantidade de 0,01 a 30 por cento em peso, com base no peso total da composição de limpeza. An aqueous cleaning composition including: a surfactant; a first compound that is immiscible with water and has Hansen solubility parameters of 10 MPa0.5≤δD≤22 MPa0.5, 0≤δP≤14 MPa0.5, and 0≤δH≤14 MPa0.5; and a second compound that is miscible with water and has Hansen solubility parameters of 10 MPa0.5≤δD≤22 MPa0.5, 0≤δP≤10 MPa0.5, and 0≤δH≤14 MPa0.5, wherein the surfactant, the first compound, and the second compound are each independently included in an amount of 0.01 to 30 weight percent, based on a total weight of the cleaning composition.