sistema de camadas refletor de infravermelho de um substrato transparente e método para a produção de um sistema de camadas

no sistema de camada refletora de infravermelhos de um substrato transparente (100) de acordo com a invenção, que compreende, nesta ordem: - uma primeira camada dielétrica (d1) disposta sobre o substrato transparente (100), - uma segunda camada dielétrica (d2) disposta sobre a primeira camada dielétrica (d1), - um primeiro sistema de camadas de metal (ms1) que compreende, nesta ordem: - uma primeira camada de metal (m1), de preferência con-sistindo ou compreendendo ag, - uma primeira camada de bloqueador (b1), - um sistema de camada de barreira dielétrica (bds) está previsto que a primeira camada dielétrica (d1) consiste de ou compreende sio2 e a segunda camada dielétrica (d2) consiste de ou compreende tio2 ou al2o3, ou que a primeira camada dielétri-ca (d1) consiste de ou compreende de al2o3 a segunda camada di-elétrica (d2 ) consiste de ou compreende tio2. no método de fabrica-ção desse sistema de camadas refletor de infravermelho provido sobre um substrato transparente (100), pelo menos um dos revestimentos individuais é depositado por pulverização catódica de um alvo de pul-verização catódica reativa ou de cerâmica. The invention relates to a layer system of a transparent substrate (100) reflecting an infrared radiation, comprising, arranged in this order: a first dialectic layer (D1) arranged on the transparent substrate (100); a second dialectic layer (D2) arranged on the first dialectic layer (D1); a first metal layer system (MS1) comprising, in this order: a first metal layer (M1), preferably made of or comprising Ag; a first blocking layer (B1). A dielectric barrier cover layer system (BDS) is provided. The first dielectric layer (D1) is made of or comprises SiO2, and the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiO2 or Al2O3, or the first dielectric layer (D1) is made of or comprises Al2O3 and the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiO2. In the method for producing an infrared reflective layer system on a provided transparent substrate (100) according to the invention, at least one of the applied individual layers is applied by sputtering a ceramic target or by reactive sputtering.