coluna de contato e de separação, prato de contato e de separação, e, processo para o tratamento de gás com um líquido

1 / 1 resumo “coluna de contato e de separaã‡ãƒo, prato de contato e de separaã‡ãƒo, e, processo para o tratamento de gãs com um lãquido” uma coluna de contato e de separaã§ã£o (1) que encerra uma pilha de uma ou mais cã©lulas de contato e de separaã§ã£o (3). cada cã©lula compreende: - um prat...

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Hauptverfasser: Eric Johannes Vos, Jannes Köppen, Peter Mervyn Wilkinson
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:1 / 1 resumo “coluna de contato e de separaã‡ãƒo, prato de contato e de separaã‡ãƒo, e, processo para o tratamento de gãs com um lãquido” uma coluna de contato e de separaã§ã£o (1) que encerra uma pilha de uma ou mais cã©lulas de contato e de separaã§ã£o (3). cada cã©lula compreende: - um prato (4) com as aberturas de fluxo de gã¡s (6) que se abre para as unidades de contato e de separaã§ã£o (7); - um tubo descendente (16) que define uma descarga de lã­quido, e - um suprimento de lã­quido (17). cada unidade de contato e de separaã§ã£o (7) compreende uma zona de contato a montante (8, 9) com entradas de lã­quido (12), e uma ou mais zonas de separaã§ã£o a jusante (10) fornecidas com um turbilhonador (13) e uma extremidade superior, com uma saã­da de gã¡s (14). a ã¡rea de seã§ã£o transversal da zona de contato (8, 9) ã© maior do que a ã¡rea de seã§ã£o transversal das ã¡reas de seã§ã£o transversal de uma ou mais zonas de separaã§ã£o da unidade de contato e de separaã§ã£o em questã£o (10). processo para o tratamento de um gã¡s com uma tal coluna. A contact and separation column (1) encasing a stack of one or more contact and separation cells (3). Each cell comprises: -a tray (4) with gas flow openings (6) opening into contact and separation units (7); -a downcomer (16) defining a liquid discharge; and -a liquid supply (17). Each contact and separation unit (7) comprises an upstream contact zone (8, 9) with liquid inlets (12), and one or more downstream separation zones (10) provided with a swirler (13) and a top end with a gas outlet (14). The swirler (13) is located at a distance from the gas inlet of from 50 to 90 % of the total length of the contact and separation zone. Process for treating a gas with such a column.