Sistema para registrar padrões de borda

sistema para registrar padrões de borda a invenção se refere ao campo da biometria. o resultado técnico é a redução no custo e um aumento na confiabilidade de um sistema de registro de padrão de borda que provê alta qualidade de imagem e tem pequenas dimensões, uma alta velocidade operacional e consumo de energia reduzido. o sistema compreende uma fonte de luz, um componente que determina a posição de uma superfície de escaneamento, um sistema óptico, um sensor de imagem multi elemento, uma memória eletrônica e um dispositivo de processamento, em que a imagem eletrônica de saída dos sistemas é ligada por meio da diluição no dispositivo de processamento a pelo menos duas imagens intermediárias que são ligadas à imagem óptica da superfície de escaneamento, na qual um feixe de radiação com comprimentos de onda menores que l é pelo menos cinco vezes superior a um feixe de radiação com comprimento de onda maiores que l, e o valor de l atende à condição 0,37*l1,5/(a*n*t1,2) < 1, em que l é o comprimento de onda crítico em micrômetros, t é o intervalo dos elementos sensíveis a luz em micrômetros, a é a abertura numérica do sistema óptico na lateral do sensor de imagem, e n é o número de elementos sensíveis a luz do sensor de imagem para um elemento da imagem de saída. The invention relates to the field of biometrics. The technical result is a reduction in the cost and an increase in the reliability of a ridge pattern recording system which provides high image quality and has small dimensions, a high operating speed and reduced energy consumption. The system comprises a light source, a component which determines the position of a scanning surface, an optical system, a multi-element image sensor, an electronic memory and a processing device, wherein the output electronic image from the system is linked by means of merging in the processing device to at least two intermediate images which are linked to the optical image from the scanning surface, in which a beam of radiation with wavelengths less than L is at least five times superior to a beam of radiation with wavelengths greater than L, and the value of L satisfies the condition 0,37·L 1.5 /(A·N·T 1.2 )