Material de revestimento de flashover anticontaminação rtv e processo de produção do mesmo

material de revestimento de flashover anticontaminação rtv e processo de produção do mesmo. a presente invenção refere-se a um revestimento de flashover antipoluição rtv e um método de preparação do mesmo. o revestimento de flashover antipoluição rtv é composto de componentes das seguintes partes em peso: 100 partes de polidimetilsiloxano, uma carga de reforço 4 a 10 partes, um catalisador 0,1 a 1 parte, um agente de reticulação 1 a 5 partes, um agente hidro-fóbico 3 a 6 partes, um pigmento 1 a 2 partes, éter decabromodifenilico 1 a 2 partes, e tolueno 30 a 40 partes. o agente hidrofóbico é uma mistura de uma substância tendo uma estrutura representada pela fórmula i e qualquer um ou mais de um óleo de silicone de peso molecular baixo, dihi-droxidifenil silano, óleo de silicone contendo flúor e óleo branco. na fórmula i, r é qualquer um de acetóxi ch3coo-, metóxi ch3o-, cetoximo meetcno-, um grupo amida acmen-, c6h11nh- amino e h2c=cmeo acetonila; r1-si é um grupo polissiloxano ou um grupo siloxano contendo flúor, e tem uma fórmula estrutural representada pela fórmula ii. na fórmula ii, n=1 a 4,e r2 é ch3- ou cf3 -. An RTV anti-pollution flashover coating, and preparation method, includes components of the following weight parts: polydimethylsiloxane 100 parts, a reinforcing filler 4 to 10 parts, a catalyst 0.1 to 1 part, a crosslinking agent 1 to 5 parts, a hydrophobic agent 3 to 6 parts, a pigment 1 to 2 parts, decabromodiphenyl ether 1 to 2 parts, and toluene 30 to 40 parts. The hydrophobic agent is a mixture of a substance having a structure represented by Formula I and any one or more of a low-molecular weight silicone oil, dihydroxydiphenyl silane, fluorine-containing silicone oil and white oil. In Formula I, R is any one of acetoxy CH3COO-, methoxy CH3O-, ketoximo MeEtCNO-, an amide group AcMeN-, amino C6H11NH- and acetonyl H2C CMeO; R1-Si is a polysiloxane group or a fluorine-containing siloxane group, and has a structural formula represented by Formula II, where n=1 to 4, and R2 is CH3- or CF3-