composição de revestimento curável, revestimento curado e artigo

composição de revestimento curável, revestimento curado e artigo composição de revestimento compreendendo uma composição polimérica de resina de poli (éster epóxi) tendo a seguinte estrutura química (i): (i) onde n é um número de 1 a cerca de 3000; cada m tem, independentemente, um valor de 0 ou 1;...

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Hauptverfasser: ROBERT E. HEFNER, BERNHARD KAINZ, XIN JIN, RAY E. DRUMRIGHT, JERRY E . WHITE
Format: Patent
Sprache:por
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Beschreibung
Zusammenfassung:composição de revestimento curável, revestimento curado e artigo composição de revestimento compreendendo uma composição polimérica de resina de poli (éster epóxi) tendo a seguinte estrutura química (i): (i) onde n é um número de 1 a cerca de 3000; cada m tem, independentemente, um valor de 0 ou 1; cada r0 é independentemente, -h ou -ch3; cada r1 é independentemente, -h ou radical alquileno de c1 a c6 (radical de hidrocarboneto alifático bivalente saturado) ; ar é uma parcela aromática bivalente de anel fundido, que muito preferivelmente é um grupo naftaleno bivalente, grupo naftaleno bivalente substituído, onde os grupos substitutos incluem um grupo alquila, cicloalquila, arila ou aralquila ou outro grupo substituto; e x é grupo cicloalquileno, incluindo grupo cicloalquileno substituído, onde o grupo substituto inclui grupo alquila, cicloalquila, arila ou aralquila ou outro grupo substituto, por exemplo, um grupo halogênio, nitro, isocianato bloqueado, ou alquiloxi ; a combinação de grupos cicloalquileno e alquileno e a combinação de grupos alquileno e cicloalquileno com uma parcela de ligação por ponte entre eles. A coating composition comprising an advanced poly epoxy ester resin polymeric composition having the following chemical structure: where n is a number from 1 to about 3000; each m independently has a value of 0 or 1; each R0 is independently -H or -CH3; each R1 is independently -H or a C1 to C6 alkylene radical (saturated divalent aliphatic hydrocarbon radical); Ar is a divalent aromatic fused-ring moiety, which is most preferably a divalent naphthalene group, substituted divalent naphthalene group, where the substitute groups include an alkyl, cycloalkyl, an aryl or an aralkyl group or other substituent; and X is cycloalkylene group, including substituted cycloalkylene group, where the substitute group include an alkyl, cycloalkyl, an aryl or an aralkyl group or other substitute group, for example, a halogen, a nitro, a blocked isocyanate, or an alkyloxy group; the combination of cycloalkylene and alkylene groups and the combination of alkylene and cycloalkylene group with a bridging moiety in between.