pó, processo para a produção do pó, uso do pó, e, molde
pó, processo para a produção do pó, uso do pó, e, molde a invenção refere-se a um pó de polioximetilno (pom) para o uso em um processo de sinterização a laser seletivo, que compreende os parâmetros que se seguem: tempo de cristalização isotérmico (a 152 c) > 3 minutos, mn de 22000-25000 g/mol, mw...
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Format: | Patent |
Sprache: | por |
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Zusammenfassung: | pó, processo para a produção do pó, uso do pó, e, molde a invenção refere-se a um pó de polioximetilno (pom) para o uso em um processo de sinterização a laser seletivo, que compreende os parâmetros que se seguem: tempo de cristalização isotérmico (a 152 c) > 3 minutos, mn de 22000-25000 g/mol, mw de 60000 -14000 g/mol, mw/mn de 3-5, mvr de 15-70 [cm^3^/10 minutos], tamanho de partícula médio de d50 a 60 m, e tamanho de partícula de 30-130 m. a invenção refere-se ainda a um método para a produção do mesmo e a partes moldadas produzidas usando o referido pó, por meio de um processo de sinterização a laser seletivo.
The invention relates to a polyoxymethylene (POM) powder for use in a selective laser sintering process and having the following parameters: Isothermal crystallization time (at 152° C.) >3 min Mn from 22 000 to 25 000 g/mol Mw from 60 000 to 140 000 g/mol Mw/Mn from 3 to 5 MVR from 15 to 70 [cm3/10 min] d50 average particle size 60 μm Particle size from 30 to 130 μm. A process for producing the powder, and also moldings produced from this powder by a selective laser sintering process, are also described. |
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