sistemas catalíticos a base de polímeros isolantes e compostos de nióbio

a presente invenção refere-se à um material sistema catalítico baseado em polímero e semicondutor de óxido de nióbio, material compósito, aplicado as reações de fotocatálise em batelada e fluxo contínuo para remoção de compostos orgânicos de difícil degradação. o sistema mostrou capaz de remover ~ 9...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: EMERSON FERNANDES PEDROSO, PATTERSON PATRICIO DE SOUZA, ÍTALO ROCHA COURA, LUIZ CARLOS ALVES DE OLIVEIRA, ANA PACHELIHEITMAN RODRIGUES, PATRICIA SANTIAGO DE OLIVEIRA PATRICIO
Format: Patent
Sprache:por
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:a presente invenção refere-se à um material sistema catalítico baseado em polímero e semicondutor de óxido de nióbio, material compósito, aplicado as reações de fotocatálise em batelada e fluxo contínuo para remoção de compostos orgânicos de difícil degradação. o sistema mostrou capaz de remover ~ 98% da concentração do azul de metileno após 70 min de reação. após a rápida remoção foi possível a reutilização por 7 vezes sem perda significativa da capacidade de remocão. o ineditismo dessa invenção é utilizar o polímero phb como suporte ativo para a dispersão do semicondutor de nióbio. é conhecido o efeito fotocatalítico do semicondutor de nióbio em reações de fotocatálise. porém, ao incidir radiação uv no compósito (phb/nb) o polímero também estará suscetível a degradação o que vai ocasionar a formação de radicais. os radicais provenientes da degradação do polímero e do semicondutor de nióbio, durante a reação de fotocatálise, atuam sinergicamente favorecendo a degradação de compostos orgânicos.