processo de obtenção de nanoestruturas unidimensionais por pulverização catódica a partir de um alvo de óxido metálico sem deposição de camada catalisadora

processo de obtenção de nanoestruturas unidimensionais por pulverização catódica a partir de um alvo de óxido metálico sem deposição de camada catalisadora representado por uma solução evolutiva no setor industrial de produção em escala industrial de toda sorte de dispositivos eletrônicos e eletro-ópticos em nanoescala, cujo processo de crescimento de nanoestruturas unidimensionais (nanofios, nanobastões, etc), de óxidos metálicos é balizado no uso de um plasma de carbono no ambiente de deposição de modo a que o carbono reaja com parte do oxigênio existente na câmara de deposição, convergindo na deposição de um óxido metálico, cuja concentração de metal é representativa quando comparada com sua composição estequiométrica, de tal sorte que esta condição favorece o crescimento de nanoestruturas unidimensionais.