METHOD AND DEVICE FOR CLEANING OF METAL CAPS OF OILS
Изобретението се отнася до метод и устройство за почистване на повърхността на алуминиеви капачки с полимерно покритие от технологични масла, което намалява рязко вероятността за увеличаване на технологичното замърсяване чрез полепване на технологичен прах и стружки. При почистването на повърхността...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | bul ; eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Изобретението се отнася до метод и устройство за почистване на повърхността на алуминиеви капачки с полимерно покритие от технологични масла, което намалява рязко вероятността за увеличаване на технологичното замърсяване чрез полепване на технологичен прах и стружки. При почистването на повърхността на капачките маслото от повърхностния слой се изпарява термично, като топлината за изпаряване се подава към него чрез индукционно нагряване на металната част на капачката при честоти от 1 до 700 kHz. При един вариант на този метод маслените пари се продухват с горещ въздух и омаслената повърхност се подлага на загряване с горещ въздух. При друг вариант на метода останалият тънък слой с дебелина от порядъка на 100 - 200 nm се подлага на ецване в студена неравновесна въздушна плазма при атмосферно налягане. Устройството осъществява описания метод за почистване на метални капачки.
The invention relates to a method and a device for cleaning the surface of aluminium caps with polymeric coating of technological oils, thus strongly reducing the likelihood of increasing the technological pollution by sticking of technological dust and chips. When cleaning the caps surface, the surface layer gets thermally evaporated, the evaporation heat being fed thereto through induction heating of the metal portion of the cap at frequencies of 1 to 700 kHz. In an embodiment of the method, the oil vapors are blown by hot air. In another embodiment of the method, the remaining thin layer with a thickness of 100 to 200 nm is subjected to etching in cold unbalanced air plasma under atmospheric pressure. The device serves to carry out the described method for metal caps cleaning. |
---|