REVÊTEMENT MUTICOUCHE DE COULEUR RÉGLABLE
La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at....
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| creator | GODFROID THOMAS KRUMPMANN ARNAUD ROBERT DAMIEN |
| description | La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 20 % at. d'hydrogène et dans lequel ladite couche à faible réfraction a une épaisseur inférieure à 140 nm, dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend de 60 à 100 % at. de silicium, de 0 à 20 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 40 % at. d'hydrogène, et dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend une épaisseur inférieure à 65 nm. L'invention porte également sur un procédé d'application d'un revêtement muticouche sur un substrat.
The current invention relates to a multilayer coating comprising a stack of a high refractive layer alternating with a low refractive layer, wherein said low refractive layer comprises from 30 to 50 at% silicon, from 40 to 70 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 20 at% hydrogen and wherein said low refractive layer has a thickness of less than 140 nm, wherein said high refractive layer comprises from 60 to 100 at% silicon, from 0 to 20 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 40 at% hydrogen, and wherein said high refractive layer comprises a thickness less than 65 nm. The inventions also relates to a process for applying a multilayer coating to a substrate. |
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The current invention relates to a multilayer coating comprising a stack of a high refractive layer alternating with a low refractive layer, wherein said low refractive layer comprises from 30 to 50 at% silicon, from 40 to 70 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 20 at% hydrogen and wherein said low refractive layer has a thickness of less than 140 nm, wherein said high refractive layer comprises from 60 to 100 at% silicon, from 0 to 20 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 40 at% hydrogen, and wherein said high refractive layer comprises a thickness less than 65 nm. The inventions also relates to a process for applying a multilayer coating to a substrate.</description><language>fre</language><subject>ADHESIVES ; CHEMISTRY ; DYES ; METALLURGY ; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS ; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS ; NATURAL RESINS ; PAINTS ; POLISHES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS,TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240722&DB=EPODOC&CC=BE&NR=1031181B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76418</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240722&DB=EPODOC&CC=BE&NR=1031181B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>GODFROID THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>KRUMPMANN ARNAUD</creatorcontrib><creatorcontrib>ROBERT DAMIEN</creatorcontrib><title>REVÊTEMENT MUTICOUCHE DE COULEUR RÉGLABLE</title><description>La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 20 % at. d'hydrogène et dans lequel ladite couche à faible réfraction a une épaisseur inférieure à 140 nm, dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend de 60 à 100 % at. de silicium, de 0 à 20 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 40 % at. d'hydrogène, et dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend une épaisseur inférieure à 65 nm. L'invention porte également sur un procédé d'application d'un revêtement muticouche sur un substrat.
The current invention relates to a multilayer coating comprising a stack of a high refractive layer alternating with a low refractive layer, wherein said low refractive layer comprises from 30 to 50 at% silicon, from 40 to 70 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 20 at% hydrogen and wherein said low refractive layer has a thickness of less than 140 nm, wherein said high refractive layer comprises from 60 to 100 at% silicon, from 0 to 20 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 40 at% hydrogen, and wherein said high refractive layer comprises a thickness less than 65 nm. The inventions also relates to a process for applying a multilayer coating to a substrate.</description><subject>ADHESIVES</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>DYES</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</subject><subject>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</subject><subject>NATURAL RESINS</subject><subject>PAINTS</subject><subject>POLISHES</subject><subject>PREPARATION OF CARBON BLACK</subject><subject>TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS,TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNAOcg073BXi6uvqF6LgGxri6ewf6uzhquDiqgBk-biGBikEHe5093F08nHlYWBNS8wpTuWF0twMCm6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXxTq6GBsaGhhaGTobGRCgBANq0Jeg</recordid><startdate>20240722</startdate><enddate>20240722</enddate><creator>GODFROID THOMAS</creator><creator>KRUMPMANN ARNAUD</creator><creator>ROBERT DAMIEN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240722</creationdate><title>REVÊTEMENT MUTICOUCHE DE COULEUR RÉGLABLE</title><author>GODFROID THOMAS ; KRUMPMANN ARNAUD ; ROBERT DAMIEN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_BE1031181B13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>ADHESIVES</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>DYES</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</topic><topic>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</topic><topic>NATURAL RESINS</topic><topic>PAINTS</topic><topic>POLISHES</topic><topic>PREPARATION OF CARBON BLACK</topic><topic>TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS,TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>GODFROID THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>KRUMPMANN ARNAUD</creatorcontrib><creatorcontrib>ROBERT DAMIEN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>GODFROID THOMAS</au><au>KRUMPMANN ARNAUD</au><au>ROBERT DAMIEN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>REVÊTEMENT MUTICOUCHE DE COULEUR RÉGLABLE</title><date>2024-07-22</date><risdate>2024</risdate><abstract>La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 20 % at. d'hydrogène et dans lequel ladite couche à faible réfraction a une épaisseur inférieure à 140 nm, dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend de 60 à 100 % at. de silicium, de 0 à 20 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 40 % at. d'hydrogène, et dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend une épaisseur inférieure à 65 nm. L'invention porte également sur un procédé d'application d'un revêtement muticouche sur un substrat.
The current invention relates to a multilayer coating comprising a stack of a high refractive layer alternating with a low refractive layer, wherein said low refractive layer comprises from 30 to 50 at% silicon, from 40 to 70 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 20 at% hydrogen and wherein said low refractive layer has a thickness of less than 140 nm, wherein said high refractive layer comprises from 60 to 100 at% silicon, from 0 to 20 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 40 at% hydrogen, and wherein said high refractive layer comprises a thickness less than 65 nm. The inventions also relates to a process for applying a multilayer coating to a substrate.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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