REVÊTEMENT MUTICOUCHE DE COULEUR RÉGLABLE
La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at....
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Format: | Patent |
Sprache: | fre |
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Zusammenfassung: | La présente invention porte sur un revêtement muticouche comprenant un empilement d'une couche à réfraction élevée alternant avec une couche à faible réfraction, dans lequel ladite couche à faible réfraction comprend de 30 à 50 % at. de silicium, de 40 à 70 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 20 % at. d'hydrogène et dans lequel ladite couche à faible réfraction a une épaisseur inférieure à 140 nm, dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend de 60 à 100 % at. de silicium, de 0 à 20 % at. d'oxygène, de 0 à 30 % at. d'azote, et de 0 à 40 % at. d'hydrogène, et dans lequel ladite couche à réfraction élevée comprend une épaisseur inférieure à 65 nm. L'invention porte également sur un procédé d'application d'un revêtement muticouche sur un substrat.
The current invention relates to a multilayer coating comprising a stack of a high refractive layer alternating with a low refractive layer, wherein said low refractive layer comprises from 30 to 50 at% silicon, from 40 to 70 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 20 at% hydrogen and wherein said low refractive layer has a thickness of less than 140 nm, wherein said high refractive layer comprises from 60 to 100 at% silicon, from 0 to 20 at% oxygen, from 0 to 30 at% nitrogen, and from 0 to 40 at% hydrogen, and wherein said high refractive layer comprises a thickness less than 65 nm. The inventions also relates to a process for applying a multilayer coating to a substrate. |
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