Magnetsystemanordnung, Prozessiervorrichtung und Vakuumanordnung

Magnetsystemanordnung (100), aufweisend: ein Magnetsystem (150) zum Erzeugen eines Magnetfeldes; und mehrere Stützsysteme, wovon: * ein erstes Stützsystem (130) eingerichtet ist, das Magnetsystem (150) an einer Lagervorrichtung abzustützen derart, dass das Magnetsystem (150) in einer ersten Lage (15...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KÖCKERT CHRISTOPH, GROSSER GÖTZ, WEICHSEL TIM, RANK ROLF
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Magnetsystemanordnung (100), aufweisend: ein Magnetsystem (150) zum Erzeugen eines Magnetfeldes; und mehrere Stützsysteme, wovon: * ein erstes Stützsystem (130) eingerichtet ist, das Magnetsystem (150) an einer Lagervorrichtung abzustützen derart, dass das Magnetsystem (150) in einer ersten Lage (151) relativ zu der Lagervorrichtung angeordnet ist; * ein zweites Stützsystem (140) eingerichtet ist, das Magnetsystem (150) an der Lagervorrichtung abzustützen derart, dass das Magnetsystem (150) in einer von der ersten Lage (151) verschiedenen zweiten Lage (152) relativ zu der Lagervorrichtung angeordnet ist; * wobei das erste Stützsystem (130) und das zweite Stützsystem (140) gegeneinander austauschbar sind, so dass das Magnetsystem (150) wahlweise in der ersten Lage (151) oder der zweiten Lage (152) angeordnet werden kann.