PROCEDE POUR LA FORMATION ET LA MISE AU POINT D'UN COMPOSANT PELLICULAIRE SUR UNE PLAQUETTE DE CIRCUIT INTEGRE

Procédé de formation et de mise au point d'un composant pelliculaire (2) d'une plaquette de circuit intégré (1) du type comprenant la formation d'une pellicule conductrice (2) sur la plaquette (1), la formation d'une couche protectrice (13) sur le composant pelliculaire (2) et la...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	RYAN EAMONN GERARD, O'DWYER THOMAS GERARD, BAIN ANDREW DAVID, COLLERY THOMAS GERARD, LANE WILLIAM ALLAN
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Procédé de formation et de mise au point d'un composant pelliculaire (2) d'une plaquette de circuit intégré (1) du type comprenant la formation d'une pellicule conductrice (2) sur la plaquette (1), la formation d'une couche protectrice (13) sur le composant pelliculaire (2) et la mise au point ou réglage de la pellicule (2) en dirigeant une impulsion de faisceau laser à travers la couche protectrice (13) sur une partie (10) de la pellicule conductrice (2) à enlever, la couche protctrice (13) étant une couche protectrice non dopée et d'une épaisseur moyenne de l'ordre de 3 à 15 unités KAngstroms, la puissance de l'impulsion du faisceau laser étant de l'ordre de 0,3 à 3,00 micro-joules.