FOTOLACK

Die Erfindung betrifft einen Fotolack, insbesondere zur Herstellung einer durch Bestrahlung strukturierbaren Beschichtung, umfassend a) ein Copolymer aus zumindest einem ersten 2-Oxazolin-Derivat der Formel I(I)mit zumindest einem zweiten 2-Oxazolin-Derivat der Formel II(II)wobei R1 und R2 jeweils a...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	STELZER FRANZ DR, WIESBROCK FRANK DR, SCHENK VERENA, ELLMAIER LISA
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	ADHESIVES APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS COMPOSITIONS BASED THEREON CORRECTING FLUIDS DYES ELECTROGRAPHY FILLING PASTES HOLOGRAPHY INKS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft einen Fotolack, insbesondere zur Herstellung einer durch Bestrahlung strukturierbaren Beschichtung, umfassend a) ein Copolymer aus zumindest einem ersten 2-Oxazolin-Derivat der Formel I(I)mit zumindest einem zweiten 2-Oxazolin-Derivat der Formel II(II)wobei R1 und R2 jeweils aliphatische und/oder aromatische Reste darstellen, wobei der Rest R2 eine funktionelle Gruppe aufweist, die bei Bestrahlung vernetzbar ist;b) einen Fotoinitiator;c) einen Vernetzer, der bei Bestrahlung mit der funktionellen Gruppe reagiert;d) optional einen Stabilisator;e) optional ein Tensid;f) zumindest ein Lösungsmittel.Ein derartiger Fotolack eignet sich zur Herstellung einer gut haftenden Beschichtung insbesondere auf Leiterplattensubstraten, wobei in der Folge eine Strukturierung einer erstellten Beschichtung mit hoher Auflösung möglich ist. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer durch fotochemische Vernetzung strukturierten Beschichtung auf einem Substrat, eine so erhältliche Beschichtung sowie ein Leiterplattensubstrat mit einer derartigen Beschichtung.