DISPOSITIVO DE SISTEMA ELECTROMECÁNICO (EMS) Y MÉTODO PARA LA ELABORACIÓN DE DICHO DISPOSITIVO

Dispositivo y método para sistemas electromecánicos que tienen vigas de las paredes laterales. En un aspecto, un dispositivo incluye un sustrato que tiene un primer electrodo y un segundo electrodo, y un transporte móvil integrado en forma monolítica con el sustrato, y que tiene una primera pared, u...

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Hauptverfasser: TIMOTHY J. BROSNIHAN, RICHARD S. PAYNE, NESBITT W. IV HAGOOD, JOYCE H. WU, JASPER LODEWYK STEYN, MARK B. ANDERSSON
Format: Patent
Sprache:spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:Dispositivo y método para sistemas electromecánicos que tienen vigas de las paredes laterales. En un aspecto, un dispositivo incluye un sustrato que tiene un primer electrodo y un segundo electrodo, y un transporte móvil integrado en forma monolítica con el sustrato, y que tiene una primera pared, una segunda pared, y una base. Cada una de la primera y la segunda pared tiene una primera dimensión por lo menos cuatro veces más grande que una segunda dimensión. La primera y la segunda pared definen sustancialmente lados verticales paralelos del transporte, y la base está posicionada en forma ortogonal a la primera y la segunda pared y forma un fondo horizontal del transporte, lo que proporciona un soporte estructural a la primera y la segunda pared. La primera pared y el primer electrodo definen un primer condensador, y la segunda pared y el segundo electrodo definen un segundo condensador. This disclosure provides systems, methods and apparatus for electromechanical systems having sidewalls beams. In one aspect, a device includes a substrate having a first electrode and a second electrode, and a movable shuttle monolithically integrated with the substrate, and having a first wall, a second wall, and a base. The first and second walls each have a first dimension at least four times larger than a second dimension. The first and second walls define substantially parallel vertical sides of the shuttle, and the base is positioned orthogonally to the first and second walls and forms a horizontal bottom of the shuttle, providing structural support to the first and second walls. The first wall and the first electrode define a first capacitor, and the second wall and the second electrode define a second capacitor.