Preparation and characterization of NiO thin films by PLD

في هذا البحث تم تحضير أغشية رقيقة من أوكسيد النيكل بواسطة الترسيب بالليزر النبضي على قواعد زجاجية بدرجات حرارة مختلفة (100, 200, 300) درجة مئوية باستخدام ليزر النديميوم ياك بتقنية عامل النوعية. درست الخصائص التركيبية و البصرية باستخدام تحليلات فورير للأشعة تحث الحمراء (FTIR) و التحليل الطيفي للأشعة المرئية و فوق البنفسجية. أظهرت نتائج طيف (FTIR) وجود أصرة أوكسيد النيكل و بينت صور مجهر القوى الذرية زيادة الحجم الحبيبي بزيادة الحرارة، و أظهرت الأغشية نفاذية عالية أكبر من 85 % للمنطقة المرئية و التي تزداد بزيادة درجة حرارة القاعدة بينما تقل فجوة الطاقة بزيادة درجة حرارة القاعدة. In this work, NiO thin films have synthesized by pulsed laser deposition on glass substrates with different substrate temperature (100, 200, 300)°C, using Q-switching Nd:YAG laser. Structure and optical properties have carried out by using FTIR, AFM and UV- Vis spectroscopy. FTIR spectraconformed of NiO bonding and AFM images show the increase in grain size with temperature. The optical transmission results show that the transparency of the NiO films is greater than 85 % in the visible region which increases with the increasing substrate temperature, While the energy band gap was decreased with increasing substrate temperature.