Laser wavelength and energy effect on optical and structure properties for nano titanium oxide prepared by pulsed laser deposition

تم تحضير أغشية أوكسيد التيتانيوم النانوية الرقيقة على قواعد زجاجية عند درجة حرارة ثابتة تساوي 373 كلفن و تحت الفراغ بمقدار يصل إلى 3-10 ملي بار, باستخدام تقنية الترسيب بالليزر النبضي حيث تم استخدام ليزر النديميوم-ياك عند الطول الموجي 1064 نانومتر. و تمت دراسة تأثير اختلاف طاقة الليزر ما بين 700-1000...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Iraqi Journal of Physics : a Refereed Journal Issued. 2014, Vol.12 (25), p.62-68
Hauptverfasser: Hamid, Isra Qahtan, Hattab, Farah, Fakhri, Makram
Format: Artikel
Sprache:ara ; eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:تم تحضير أغشية أوكسيد التيتانيوم النانوية الرقيقة على قواعد زجاجية عند درجة حرارة ثابتة تساوي 373 كلفن و تحت الفراغ بمقدار يصل إلى 3-10 ملي بار, باستخدام تقنية الترسيب بالليزر النبضي حيث تم استخدام ليزر النديميوم-ياك عند الطول الموجي 1064 نانومتر. و تمت دراسة تأثير اختلاف طاقة الليزر ما بين 700-1000 ملي جول على خصائص أغشية أوكسيد التيتانيوم. أظهرت فحص حيود الأشعة السينية أن غشاء أوكسيد التيتانيوم المحضر عند طاقة ليزر تساوي 1000 ملي جول كان متعدد البلورات. و أيضا التحضير كان يشمل قياسات النفاذية البصرية و الامتصاص و كذلك قياس انتظامية السطح لهذه الاغشية. و قد تم التعرف على أفضل المعلمات لنمو أحسن غشاء لأوكسيد التيتانيوم. Nano TiO2 thin films on glass substrates were prepared at a constant temperature of (373 K) and base vacuum (10-3 mbar), by pulsed laser deposition (PLD) using Nd : YAG laser at 1064 nm wavelength. The effects of different laser energies between (700-1000) mJ on the properties of TiO2 films was investigated. TiO2 thin films were characterized by X-ray diffraction (XRD) measurements have shown that the polycrystalline TiO2 prepared at laser energy 1000 mJ. Preparation also includes optical transmittance and absorption measurements as well as measuring the uniformity of the surface of these films. Optimum parameters have been identified for the growth of high-quality TiO2 films.
ISSN:2070-4003