Sol-Jel Yöntemi ile Üretilen ZnO(Al)/p-Si Heteroekleminin Elektriksel Karakterizasyonu

Bu çalışmada, p-tipi Silisyum (p-Si) üzerine katkısız Çinko Oksit (ZnO) ve %2 Alüminyum katkılı çinko oksit (ZnOAl) kaplanarak oluşturulan heteroeklemlerin elektriksel özellikleri incelenmiştir. ZnO ve ZnOAl nanoparçacıklar Sol-Jel yöntemi ile sentezlenmiş ve ZnO/p-Si, ZnOAl/p-Si heteroeklemleri dön...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Süleyman Demirel Üniversitesi Fen-Edebiyat Fakültesi Fen Dergisi 2018-11, Vol.13 (2), p.121-131
1. Verfasser: AKÇAY, Namık
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Bu çalışmada, p-tipi Silisyum (p-Si) üzerine katkısız Çinko Oksit (ZnO) ve %2 Alüminyum katkılı çinko oksit (ZnOAl) kaplanarak oluşturulan heteroeklemlerin elektriksel özellikleri incelenmiştir. ZnO ve ZnOAl nanoparçacıklar Sol-Jel yöntemi ile sentezlenmiş ve ZnO/p-Si, ZnOAl/p-Si heteroeklemleri döndürme kaplama tekniği ile oluşturulmuştur. Kaplama sonrası örneklere 450 oC’de 30 dk termal tavlama işlemi uygulanmıştır. 10K-300K aralığında alınan Akım-Voltaj (I-V) ve Kapasite-Voltaj (C-V) ölçümleri örneklerin çok düşük sızıntı akımına sahip diyot davranışı sergilediğini göstermektedir. C-V ölçüm sonuçlarından diyotların bariyer yüksekliği (Vbi) ve taşıyıcı konsantrasyonları (Nd) hesaplandı. Derin seviye geçiş spektroskopisi (DLTS) tekniği ile arınma bölgesi civarında bulunan tuzak seviyeleri araştırılmıştır. Her iki örnekte de elektron tuzaklarının varlığı tespit edilmiştir. In this work, the electrical properties of heterojunctions formed by coating of undoped Zinc Oxide (ZnO) and 2% Aluminum doped zinc oxid (AZO) on p-type silicon (p-Si) were investigated. ZnO and AZO nanoparticles were synthesized by Sol-Gel method and ZnO / p-Si, ZnO (Al) / p-Si heterojunctions were formed by spin coating technique. After the coating, the samples were thermally annealed at 450 oC for 30 minutes. Current-Voltage (I-V) and Capacitance-Voltage (C-V) measurements taken at 10K-300K show that the samples exhibit diode behavior with very low leakage current. Built-in potential (Vbi) and carrier concentrations (Nd) of diodes were calculated from C-V measurement results. Deep level transition spectroscopy (DLTS) technique was used to investigate trap levels around the depletion region. The presence of electron traps in both samples was determined.
ISSN:1306-7575
1306-7575
DOI:10.29233/sdufeffd.462245