Carbon nitride films grown by cathodic vacuum arc for hemocompatibility applications

Se obtuvieron películas delgadas de nitruro de carbono amorfo empleando arco pulsado y variando la temperatura del sustrato a temperatura ambiente, 100, 150 y 200 °C. Los enlaces de las estructuras se investigaron empleando la técnica de espectroscopía infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) y espectroscopía Raman. Se identificaron bandas de nitrilos en aproximadamente 2200 cm-1. Se observó una reducción en la concentración de los enlaces sp3 y del desorden estructural de las películas. La relación entre las intensidades de las bandas D y G aumentó con la temperatura del sustrato desde temperatura ambiente hasta 100°C; sin embargo, a una temperatura crítica de 150°C, esta tendencia desapareció y las películas se tornaron amorfas. Se observó un pico ubicado en aproximadamente 1610 cm-1 en las películas crecidas a 100°C, 150°C y 200 °C; además, las películas crecidas a 150 °C presentaron la rugosidad más baja y mayores durezas y hemocompatibilidad.