Influence of Alumina Addition on the Optical Properties and the Thermal Stability of Titania Thin Films and Inverse Opals Produced by Atomic Layer Deposition
TiO thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) at low temperatures (
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Veröffentlicht in: | Nanomaterials (Basel, Switzerland) Switzerland), 2021-04, Vol.11 (4), p.1053 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Zusammenfassung: | TiO
thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) at low temperatures ( |
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ISSN: | 2079-4991 2079-4991 |
DOI: | 10.3390/nano11041053 |