Influence of Alumina Addition on the Optical Properties and the Thermal Stability of Titania Thin Films and Inverse Opals Produced by Atomic Layer Deposition

TiO thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) at low temperatures (

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Nanomaterials (Basel, Switzerland) Switzerland), 2021-04, Vol.11 (4), p.1053
Hauptverfasser: Waleczek, Martin, Dendooven, Jolien, Dyachenko, Pavel, Petrov, Alexander Y, Eich, Manfred, Blick, Robert H, Detavernier, Christophe, Nielsch, Kornelius, Furlan, Kaline P, Zierold, Robert
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:TiO thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) at low temperatures (
ISSN:2079-4991
2079-4991
DOI:10.3390/nano11041053