Ellipsometry and XPS comparative studies of thermal and plasma enhanced atomic layer deposited Al2O3-films

Ellipsometry and XPS comparative studies of thermal and plasma enhanced atomic layer deposited Al2O3-films

We report on results on the preparation of thin (

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Beilstein journal of nanotechnology 2013-11, Vol.4 (1), p.732-742
Hauptverfasser: Haeberle, Jörg, Henkel, Karsten, Gargouri, Hassan, Naumann, Franziska, Gruska, Bernd, Arens, Michael, Tallarida, Massimo, Schmeißer, Dieter
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Al2O3
ALD
ellipsometry
Full Research Paper
Nanoscience
Nanotechnology
PE-ALD
XPS
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:We report on results on the preparation of thin (
ISSN:2190-4286
2190-4286
DOI:10.3762/bjnano.4.83