Low-temperature silicon oxidation using oxidizing radicals produced by catalytic decomposition of H 2 O/H 2 on heated tungsten wire

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2018-12, Vol.57 (12), p.120301
Hauptverfasser:	Katamune, Yūki, Negi, Takanobu, Tahara, Shinichi, Fukushima, Kazuya, Izumi, Akira
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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